真空鍍膜的工作原理是什么

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真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍鋯等等。
中頻設(shè)備必須加冷卻水進(jìn)行冷卻，原因是它的頻率高電流大。電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)有一個(gè)集膚效應(yīng)，電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)有表面積，這樣會(huì)使電導(dǎo)發(fā)熱，所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。
從更深層次研究電子在非均勻電磁場(chǎng)中的運(yùn)動(dòng)規(guī)律 ,探討了磁控濺射的更一般原理以及磁場(chǎng)的橫向不均勻性及對(duì)稱性是磁約束的本質(zhì)原因。磁控濺射可以被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中較突出的成就之一。特點(diǎn)是濺射率高、基片溫升低、膜-基結(jié)合力好、裝置性能穩(wěn)定。
冷水機(jī)能控制真空鍍膜機(jī)的溫度，以保證鍍件的高質(zhì)量。如果不配置冷水機(jī)就不能使真空鍍膜機(jī)達(dá)到高精度、高效率控制溫度的目的，因?yàn)樽匀凰退岫疾豢杀苊獾厥艿阶匀粴鉁氐挠绊?，而且此方式控制是極不穩(wěn)定的。

光潤(rùn)真空技術(shù)團(tuán)隊(duì)具有20多年從事真空技術(shù)應(yīng)用設(shè)備研制、工藝開發(fā)的深厚資歷，在與國(guó)內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作的基礎(chǔ)上，公司開發(fā)的硬質(zhì)鍍膜設(shè)備、卷繞鍍膜設(shè)備以及光學(xué)鍍膜設(shè)備等在國(guó)內(nèi)處于較好水平。公司產(chǎn)品覆蓋蒸發(fā)鍍膜專業(yè)設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜專業(yè)設(shè)備、多弧離子真空鍍膜專業(yè)設(shè)備、DLC和硬質(zhì)膜層專業(yè)設(shè)備等。相關(guān)產(chǎn)品在國(guó)內(nèi)有很強(qiáng)的市場(chǎng)影響力，也出口巴基斯坦、越南、印度、印尼、韓國(guó)、泰國(guó)、法國(guó)、土耳其、巴西等地。

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