真空鍍膜機四種清洗方法

發(fā)布時間：2020-06-03瀏覽次數(shù)：載入中...

真空鍍膜機在使用過程中，必須要持續(xù)進行維護和清洗，這樣才能保證機器能持續(xù)穩(wěn)定工作，也能長久保證機器的鍍膜質(zhì)量，避免不要的故障產(chǎn)生，從而提高效率，降低成本。因此真空鍍膜機的清洗以及維護的方法，是每個真空鍍膜機公司必須要了解基本知識。下面小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機的四種清洗方法，提供給大家了解，希望能幫到大家。
一.真空加熱清洗
將工件放置于常壓或真空中加熱，促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件，促使其表面吸附的水分子和各種碳氫化合物分子的解吸作用增強。解吸增強的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級清潔表面，加熱溫度必高于450度才行，加熱清洗方法特別有效。但有時，這種處理方法也會產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳氫化合物聚合成較大的團粒，并同時分解成碳渣
二.紫外線輻照清洗
利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個產(chǎn)生臭氧的紫外線源中，要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔），這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用、形成較簡單易揮發(fā)分子，如H203，CO2和N2，其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加
三.放電清洗
這種清洗方法在高真空，超高真空系統(tǒng)的清洗除氣中應(yīng)用的非常廣，尤其是在真空鍍膜設(shè)備中用的較多。利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除，清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關(guān)系，即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量，從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當(dāng)分壓力的惰性氣體（典型的如Ar氣），可以利用兩個適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中，惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構(gòu)件及被鍍基片，它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣，對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。一般情況下，其中的碳不能單獨揮發(fā)，經(jīng)化學(xué)清洗后，需要引入Ar或Ar+02混合氣體進行輝光放電清洗，使表面上的染質(zhì)和由于化學(xué)作用被束縛在表面上的氣體得到清理，在輝光放電清洗中，比較重要的參數(shù)是外加電壓的類型（交流或直流），放電電壓大小、電流密度、充入氣體種類和壓力，轟擊的持續(xù)時間，電極的形狀以及待清洗的部件的材料和位置等。
四.氣體沖洗
1.氨氣沖洗
氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短，即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氨氣的這種性質(zhì)沖洗真空系統(tǒng)，可以縮短系統(tǒng)的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入大氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入大氣，則下一抽氣循環(huán)的抽氣時間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統(tǒng)被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統(tǒng)一般是一邊對系統(tǒng)進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統(tǒng)，可將油污染消除。
2.反應(yīng)氣體沖洗
這種方法特別適用于大型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗（去除碳氫化合物污染），通常對于某些大型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空系統(tǒng)等方法。以上的清洗和除氣方法常用于真空系統(tǒng)安裝前及裝配期間。在真空系統(tǒng)安裝后（或系統(tǒng)運行后），由于真空系統(tǒng)內(nèi)的各種零部件已經(jīng)被固定，這時對它們進行除氣處理就很困難，一旦系統(tǒng)受到（偶然）污染（主要是大原子數(shù)的分子如碳氫化合物的污染），通常要拆卸后重新處理再安裝，而用反應(yīng)氣體工藝，可以進行原位在線除氣處理，有效地除去不銹鋼真空室內(nèi)的碳氫化合物的污染其清洗機理：在系統(tǒng)中引述氧化性氣體（02，NO）和還原性氣體（H2，NH3）對金屬表面進行化學(xué)反應(yīng)清洗，消除污染，以便獲得原子態(tài)的清潔金屬表面。表面氧化/還原的速率取決于污染的情況及金屬表面的材質(zhì)，表面反應(yīng)速率的大小通過調(diào)整反應(yīng)氣體的壓力和溫度來控制。對于每一種基材而言，精確的參數(shù)要通過實驗來確定對于不同的結(jié)晶取向，這些參數(shù)是不同的。
以上是真空鍍膜機較長用的四種清洗方法，機器清洗環(huán)節(jié)必不可少，只有持續(xù)清洗及維修，才能保證及提高高質(zhì)量的膜層生產(chǎn)概率。

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