真空鍍膜機(jī)磁控濺射方式介紹

真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜工藝，已經(jīng)涉及到各個(gè)行業(yè)。在光學(xué)行業(yè)中，很多數(shù)碼產(chǎn)品都是通過光學(xué)磁控濺射技術(shù)來進(jìn)行鍍膜的，為其改變使用性能及用途。裝飾行業(yè)，我們身邊用的衛(wèi)浴、餐具、裝飾品等產(chǎn)品，也有通過磁控濺射技術(shù)的鍍上一層薄薄的膜層，為其改變美觀度和性能。還有日常生活使用的柔性產(chǎn)品，真空行業(yè)統(tǒng)稱卷繞產(chǎn)品，大部分產(chǎn)品也會(huì)應(yīng)用到磁控濺射鍍膜工藝。還有其它的各行各業(yè)，就不再一一列舉。對(duì)鍍膜相關(guān)產(chǎn)品有稍許接觸的人，幾乎都有聽說過真空磁控濺射鍍膜技術(shù)，可想而知磁控濺射鍍膜技術(shù)在實(shí)際應(yīng)用中的占據(jù)的分量。那么磁控濺射鍍膜方式有方式，有哪些呢？

直流濺射(DC Magnetron Sputtering)、射頻濺射(RF Magnetron Sputtering)、脈沖濺射(PulsedMagnetro n Sp uttering)和中頻濺射(Medium Fre2quency Magnetro n Sp uttering)

反應(yīng)濺射是在濺射系統(tǒng)里的惰性氣體氣氛中，通入一定比例的反應(yīng)氣體，通常用作反應(yīng)氣體的主要是氧氣和氮?dú)狻?br />
直流濺射方法用于被濺射材料為導(dǎo)電材料的濺射和反應(yīng)濺射鍍膜中，其工藝設(shè)備簡單，有較高的濺射速率。

中頻交流磁控濺射在單個(gè)陰極靶系統(tǒng)中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用。中頻交流濺射技術(shù)還應(yīng)用于孿生靶(Twin2Mag)濺射系統(tǒng)中，中頻交流孿生靶濺射是將中頻交流電源的兩個(gè)輸出端，分別接到閉合磁場非平衡濺射雙靶的各自陰極上，因而在雙靶上分別獲得相位相反的交流電壓，一對(duì)磁控濺射靶則交替成為陰極和陽極。孿生靶濺射技術(shù)提高磁控濺射運(yùn)行的穩(wěn)定性，可避免被毒化的靶面產(chǎn)生電荷積累，引起靶面電弧打火以及陽極消失的問題，濺射速率高，為化合物薄膜的工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)奠定基礎(chǔ)。
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