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0510-88276101一文淺述真空技術應用及真空鍍膜操作規(guī)范
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真空
真空的含義是指在給定的空間內低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài),是一種物理現(xiàn)象。在“虛空”中,聲音因為沒有介質而無法傳遞,但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。事實上,在真空技術里,真空系針對大氣而言,一特定空間內部之部份物質被排出,使其壓力小于一個標準大氣壓,則我們通稱此空間為真空或真空狀態(tài)。
不同真空狀態(tài)下真空工藝的應用
粗真空(100000-1000Pa)
氣體狀態(tài)與常壓相比只是分子數(shù)量的減少,沒有氣體空間特性的變化,分子間碰撞頻繁,此時的吸附氣體釋放可以不做考慮,氣體運動以粘滯流為主。主要是利用壓力差產生的力來實現(xiàn)真空力學應用(真空吸引或運輸固體、液體、膠體等,真空吸盤起重,真空過濾)。
低真空(1000-0.1Pa)
氣體分子間,分子與器壁間碰撞不相上下,氣體分子密度較小,氣體釋放也可不考慮,氣體運動以中間流為主。利用氣體分子密度降低可實現(xiàn)無氧化加熱,利用氣壓降低時氣體的熱傳導和對流逐漸消失的原理可以實現(xiàn)真空隔熱及絕緣,利用壓強降低液體沸點也降低的原理實現(xiàn)真空冷凍和真空干燥(黑色金屬真空熔煉脫氣,真空絕緣和真空隔熱,真空冷凍及干燥,高速空氣動力學實驗中的低壓風洞)。
高真空(0.1-0.000001Pa)
氣體分子間相互碰撞極少,氣體分子與器壁間碰撞頻繁,氣體運動以分子流為主,此時的氣體釋放是影響真空度及抽氣時間的一個主要原因。利用氣體分子密度低,任何物質與氣體殘余分子發(fā)生化學作用微弱的特點進行真空冶金,真空鍍膜(超純全屬、半導體材料的真空提純及精制,真空鍍膜,離子注入、干法刻蝕等表面改性,真空器件的生產:光電管、各種拉子加速器等)。
超高真空(>0.0000001Pa)
氣體分子與器壁的碰撞次數(shù)極少,氣體空間只有固體本身的原子,幾乎沒有別的分子或原子的存在,此時壓強的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應用:宇宙空間環(huán)境的模擬,大型同步質子加速器的運轉。
真空鍍膜操作規(guī)范
· 準備工作
1)開啟設備總電源, 穩(wěn)壓器,確認三項供電電壓正常:370—440V;
2)開啟電容補償器;
3)確認水池冷卻水水量充足(見浮標尺)打開循環(huán)水泵;
4)根據工藝要求,確定是否需要啟動冷水機以及啟動幾臺冷水機;啟動前應確認冷水機入口水壓1.5-3kg,內部增壓泵旋轉正常,可采用自動或手動方式啟動;
5)確認各部分冷卻水循環(huán)系統(tǒng)完好,確認擴散泵循環(huán)水工作正常,緊急冷卻系統(tǒng)準備就緒;
6)確認工藝氣體氣壓不低于20個大氣壓
7)裝基膜
A、領膜:鍍膜工按照生產任務單要求,從凈化室中領導基膜時,應檢查該膜是否合格,有無花紋、斑點、劃傷、污跡、收卷是否整齊等直接觀測到的問題,如有應立即向生產主管報告,以決定是否采用。
B、裝軸:操作時必須帶手套,將合格的基膜放在膜托架上,取一對尺寸相同的軸安裝好,安裝時請注意膜的正反面,確認一切準備就緒,即可吊裝,吊裝時必須輕拿輕放,嚴禁碰撞,必須保持基膜水平,以免膜打滑引起螺紋狀;
C、裝膜:確認冷輥無冷凝水后,即可裝膜,裝膜時不要對著膜講話,以保持膜面干凈。注意不要碰透過率分析儀的探頭,裝膜時應保證膜在冷輥的中心;
D、按任務書車速要求設置鍍膜速度、張力;
E、試卷
8)按生產任務書要求確認各靶位、布氣系統(tǒng)、電源配置正確,靶材量充足,確認無其他物品遺忘在真空室內或小車上,關閉真空室。
· 抽真空
1)擴散泵預加熱(約需40分鐘):啟動維持泵,確認運轉正常后,打開維持閥(燈亮) ,逐一打開擴散泵;
2)低抽:確認真空室門已關閉啟動計算機,進入鍍膜系統(tǒng)監(jiān)控程序,充氣閥關閉,啟動機械泵(1、2),確認機械泵正常運行后,開預抽閥,五分鐘后打開復合真空計,打開羅茨泵開關,。(當真空達到1500Pa時,羅茨泵允許信號燈(紅燈)亮,再延遲25秒后,羅茨泵自動啟動) ;
3)高抽:當羅茨泵啟動五分鐘后,打開熱偶真空計,當真空度達到5Pa時,開高閥允許信號燈(紅燈)亮,此時確認擴散泵預熱已完成 (加熱40分鐘或油窗油面達到規(guī)定位置情況下),關閉預抽閥,依次打開各前級閥,關維持閥、關維持泵。依次打開各路高閥,確認到位開關燈亮,開始高抽。真空度進入10 -2 Pa后,打開電離真空計測量高真空,直到工藝規(guī)定的背景真空,真空進入6×10-3Pa后,打開靶電源總開關及透過率分析儀預熱,與計算機系統(tǒng)完成通訊連接;
· 鍍膜
1)確認已達背景真空,關閉電離真空計,打開冷輥、隔離槽、靶電源、冷卻水,確認工作正常;
2)打開所需各路供氣電磁閥,抽取殘留雜質氣體,確認到達背景真空,按工藝要求設置各路氣體流量,打開總氣閥、減壓閥、氣體控制器開關,用中真空計觀察工藝氣體總壓,穩(wěn)定后進行透過率分析儀初始化整定(此時需關閉真空室照明燈) ;
3)鍍膜:啟動傳動系統(tǒng),確認收放卷工作正常,按靶1—靶5依次設置各靶鍍膜功率,關照明燈,觀察記錄透過率變化情況,開照明燈,觀察鍍膜后剩余反射光、外觀、顏色、質量是否符合工藝要求,在穩(wěn)定工作的情況下,做好工藝記錄,不斷巡查設備運轉狀況,合理處置各種隨機問題,鍍膜結束時,依次關閉傳動、靶電源,工藝氣體、冷卻水、(擴散泵水除外),依次關閉各路高閥,啟動維持泵,開維持閥,依次關各路前級閥、羅茨泵、機械泵、各真空測量儀,對冷輥升溫,如不繼續(xù)鍍膜,關閉擴散泵,保持冷卻水,降溫3小時后,關維持閥和維持泵;
· 恢復大氣壓力
確認冷輥高于溫度后,打開充氣閥,充氣完成后,打開真空室門
· 檢驗
· 卸膜
將鍍膜剩余膜收卷完畢,用吊車小心將成品膜吊裝到托架上,送交凈化室;
· 分卷、分切、入庫保存;
· 包裝、出庫、運輸;
· 特別提示
當系統(tǒng)發(fā)生故障或供電系統(tǒng)問題引起突然停電時,應立即啟動擴散泵緊急冷卻系統(tǒng),方法是:關閉擴散泵主循環(huán)閥,打開自來水總開關,對爐盤強制冷卻, 冷卻后應在下一次使用前用氣管將急冷水吹干。
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真空的含義是指在給定的空間內低于一個大氣壓力的氣體狀態(tài),是一種物理現(xiàn)象。在“虛空”中,聲音因為沒有介質而無法傳遞,但電磁波的傳遞卻不受真空的影響。事實上,在真空技術里,真空系針對大氣而言,一特定空間內部之部份物質被排出,使其壓力小于一個標準大氣壓,則我們通稱此空間為真空或真空狀態(tài)。
不同真空狀態(tài)下真空工藝的應用
粗真空(100000-1000Pa)
氣體狀態(tài)與常壓相比只是分子數(shù)量的減少,沒有氣體空間特性的變化,分子間碰撞頻繁,此時的吸附氣體釋放可以不做考慮,氣體運動以粘滯流為主。主要是利用壓力差產生的力來實現(xiàn)真空力學應用(真空吸引或運輸固體、液體、膠體等,真空吸盤起重,真空過濾)。
低真空(1000-0.1Pa)
氣體分子間,分子與器壁間碰撞不相上下,氣體分子密度較小,氣體釋放也可不考慮,氣體運動以中間流為主。利用氣體分子密度降低可實現(xiàn)無氧化加熱,利用氣壓降低時氣體的熱傳導和對流逐漸消失的原理可以實現(xiàn)真空隔熱及絕緣,利用壓強降低液體沸點也降低的原理實現(xiàn)真空冷凍和真空干燥(黑色金屬真空熔煉脫氣,真空絕緣和真空隔熱,真空冷凍及干燥,高速空氣動力學實驗中的低壓風洞)。
高真空(0.1-0.000001Pa)
氣體分子間相互碰撞極少,氣體分子與器壁間碰撞頻繁,氣體運動以分子流為主,此時的氣體釋放是影響真空度及抽氣時間的一個主要原因。利用氣體分子密度低,任何物質與氣體殘余分子發(fā)生化學作用微弱的特點進行真空冶金,真空鍍膜(超純全屬、半導體材料的真空提純及精制,真空鍍膜,離子注入、干法刻蝕等表面改性,真空器件的生產:光電管、各種拉子加速器等)。
超高真空(>0.0000001Pa)
氣體分子與器壁的碰撞次數(shù)極少,氣體空間只有固體本身的原子,幾乎沒有別的分子或原子的存在,此時壓強的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的釋放。應用:宇宙空間環(huán)境的模擬,大型同步質子加速器的運轉。
真空鍍膜操作規(guī)范
· 準備工作
1)開啟設備總電源, 穩(wěn)壓器,確認三項供電電壓正常:370—440V;
2)開啟電容補償器;
3)確認水池冷卻水水量充足(見浮標尺)打開循環(huán)水泵;
4)根據工藝要求,確定是否需要啟動冷水機以及啟動幾臺冷水機;啟動前應確認冷水機入口水壓1.5-3kg,內部增壓泵旋轉正常,可采用自動或手動方式啟動;
5)確認各部分冷卻水循環(huán)系統(tǒng)完好,確認擴散泵循環(huán)水工作正常,緊急冷卻系統(tǒng)準備就緒;
6)確認工藝氣體氣壓不低于20個大氣壓
7)裝基膜
A、領膜:鍍膜工按照生產任務單要求,從凈化室中領導基膜時,應檢查該膜是否合格,有無花紋、斑點、劃傷、污跡、收卷是否整齊等直接觀測到的問題,如有應立即向生產主管報告,以決定是否采用。
B、裝軸:操作時必須帶手套,將合格的基膜放在膜托架上,取一對尺寸相同的軸安裝好,安裝時請注意膜的正反面,確認一切準備就緒,即可吊裝,吊裝時必須輕拿輕放,嚴禁碰撞,必須保持基膜水平,以免膜打滑引起螺紋狀;
C、裝膜:確認冷輥無冷凝水后,即可裝膜,裝膜時不要對著膜講話,以保持膜面干凈。注意不要碰透過率分析儀的探頭,裝膜時應保證膜在冷輥的中心;
D、按任務書車速要求設置鍍膜速度、張力;
E、試卷
8)按生產任務書要求確認各靶位、布氣系統(tǒng)、電源配置正確,靶材量充足,確認無其他物品遺忘在真空室內或小車上,關閉真空室。
· 抽真空
1)擴散泵預加熱(約需40分鐘):啟動維持泵,確認運轉正常后,打開維持閥(燈亮) ,逐一打開擴散泵;
2)低抽:確認真空室門已關閉啟動計算機,進入鍍膜系統(tǒng)監(jiān)控程序,充氣閥關閉,啟動機械泵(1、2),確認機械泵正常運行后,開預抽閥,五分鐘后打開復合真空計,打開羅茨泵開關,。(當真空達到1500Pa時,羅茨泵允許信號燈(紅燈)亮,再延遲25秒后,羅茨泵自動啟動) ;
3)高抽:當羅茨泵啟動五分鐘后,打開熱偶真空計,當真空度達到5Pa時,開高閥允許信號燈(紅燈)亮,此時確認擴散泵預熱已完成 (加熱40分鐘或油窗油面達到規(guī)定位置情況下),關閉預抽閥,依次打開各前級閥,關維持閥、關維持泵。依次打開各路高閥,確認到位開關燈亮,開始高抽。真空度進入10 -2 Pa后,打開電離真空計測量高真空,直到工藝規(guī)定的背景真空,真空進入6×10-3Pa后,打開靶電源總開關及透過率分析儀預熱,與計算機系統(tǒng)完成通訊連接;
· 鍍膜
1)確認已達背景真空,關閉電離真空計,打開冷輥、隔離槽、靶電源、冷卻水,確認工作正常;
2)打開所需各路供氣電磁閥,抽取殘留雜質氣體,確認到達背景真空,按工藝要求設置各路氣體流量,打開總氣閥、減壓閥、氣體控制器開關,用中真空計觀察工藝氣體總壓,穩(wěn)定后進行透過率分析儀初始化整定(此時需關閉真空室照明燈) ;
3)鍍膜:啟動傳動系統(tǒng),確認收放卷工作正常,按靶1—靶5依次設置各靶鍍膜功率,關照明燈,觀察記錄透過率變化情況,開照明燈,觀察鍍膜后剩余反射光、外觀、顏色、質量是否符合工藝要求,在穩(wěn)定工作的情況下,做好工藝記錄,不斷巡查設備運轉狀況,合理處置各種隨機問題,鍍膜結束時,依次關閉傳動、靶電源,工藝氣體、冷卻水、(擴散泵水除外),依次關閉各路高閥,啟動維持泵,開維持閥,依次關各路前級閥、羅茨泵、機械泵、各真空測量儀,對冷輥升溫,如不繼續(xù)鍍膜,關閉擴散泵,保持冷卻水,降溫3小時后,關維持閥和維持泵;
· 恢復大氣壓力
確認冷輥高于溫度后,打開充氣閥,充氣完成后,打開真空室門
· 檢驗
在收卷一側壓緊輥處用記號筆標記鍍膜終止位置橫線,對鍍膜質量進行必要的觀測檢驗記錄
· 卸膜
將鍍膜剩余膜收卷完畢,用吊車小心將成品膜吊裝到托架上,送交凈化室;
· 分卷、分切、入庫保存;
· 包裝、出庫、運輸;
· 特別提示
當系統(tǒng)發(fā)生故障或供電系統(tǒng)問題引起突然停電時,應立即啟動擴散泵緊急冷卻系統(tǒng),方法是:關閉擴散泵主循環(huán)閥,打開自來水總開關,對爐盤強制冷卻, 冷卻后應在下一次使用前用氣管將急冷水吹干。
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